设计图案的基本方法
华为公司申请自对准四重图案化半导体装置的制作方法以及半导体装置...金融界2024年3月22日消息，据国家知识产权局公告，华为技术有限公司申请一项名为“自对准四重图案化半导体装置的制作方法以及半导体装置小发猫。 基于第四图案化硬掩膜层对第一抗反射层和待刻蚀层进行刻蚀，形成图案化的待刻蚀层。实施本申请实施例，可以提高电路图案设计的自由度。..
三星取得设计光掩模的布局的方法以及制造光掩模的方法专利,该专利...三星电子株式会社取得一项名为“设计光掩模的布局的方法以及制造光掩模的方法“授权公告号CN109656093B,申请日期为2018年9月。专利摘要显示，一种设计光掩模的布局的方法和制造光掩模的方法，该设计光掩模的布局的方法包括：获得掩模图案的设计布局；对设计布局执行光学邻好了吧！
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宜宾三江新区宋家中心校开展“数学节图案设计”比赛感受图案平移、旋转轴对称的美，以数学的眼光去观察生活，体验数学的内在魅力，近期，宜宾三江新区宋家镇中心小学校组织了“数学节图案设计”比赛。该校530余名学生参赛。活动方案公布后，同学们纷纷行动起来，深学数学知识，动脑动手设计图案，积极参加班级组织的初赛。在为期两个说完了。
台积电取得产生光掩模图案方法及系统专利,通过热点图像产生两个光...金融界2023年11月30日消息，据国家知识产权局公告，台湾积体电路制造股份有限公司取得一项名为“产生光掩模图案的方法及系统”，授权公告号CN111123642B,申请日期为2019年10月。专利摘要显示，本发明实施例提供一种产生光掩模图案的方法及系统。所述系统获得设计布局图像好了吧！
久之洋取得电加热膜专利,降低对光学成像系统的影响湖北久之洋红外系统股份有限公司取得一项名为“一种用于蓝宝石窗口的电加热膜及其制备方法”，授权公告号CN118042656B,申请日期为2024年3月。专利摘要显示，本发明提供了一种用于蓝宝石窗口的电加热膜及其制备方法，电加热膜包括依次设置在蓝宝石窗口上的基于图案设计的好了吧！
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顺络电子取得叠层器件生瓷片上的电极线制作方法及电极线布置结构...一种叠层器件生瓷片上的电极线制作方法及电极线布置结构，该方法包括如下步骤：S1、设计待形成在生瓷片上的初始电极图案；S2、设计生瓷片吸取治具上的真空吸孔的排布图案；S3、从真空吸孔的排布图案与初始电极图案的组合图案中确定出构成组合图案的基本矩形单元；S4、将基本后面会介绍。
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台积电取得集成电路布图调整处理方法及系统、半导体装置制造方法...半导体装置制造方法“授权公告号CN110858266B,申请日期为2019年4月。专利摘要显示，调整集成电路设计布图方法包含于第一技术节点，接收第一集成电路的第一集成电路设计布图，依据设计规则，从第一栅极布图图案取得第二栅极布图图案，基于第一、第二栅极布图图案，决定第一集还有呢？
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三星申请半导体工艺专利,提高半导体器件的制造精度三星电子株式会社申请一项名为“校正用于半导体工艺的布局的方法、制造半导体器件的方法和布局校正系统“公开号CN117954443A,申请日期为2023年7月。专利摘要显示，一种校正用于半导体工艺的布局的方法，包括：接收包括用于半导体工艺的布局图案的设计布局，以形成半导体器是什么。
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济南高校毕业季,女生们纷纷DIY簪花学士服她们从网上搜索各种图案，再加上各自的个性化理解，制定出一套套别出心裁的设计方案。随后，她们购买各种造型的簪花，再用热熔胶在学士帽和学士服上固定好簪花。如此一来，一件件熠熠生辉的簪花学士服“诞生”了！然后，大家“盛装”结伴在教室、宿舍、图书馆、校园各处拍照，留下好了吧！
衣服的制作流程图案等。2. 面料采购：根据设计方案选择合适的面料，通常需要考虑面料的质地、弹性、透气性、耐久性等因素。3. 剪裁：将选好的面料按照设计后面会介绍。 形成衣服的基本形状。5. 整烫：将缝制好的衣服进行整烫，使其平整、整齐，并去除面料表面的毛刺和皱褶。6. 印花或绣花：根据设计要求在衣服上后面会介绍。
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